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【地盤改良】高壓噴射灌漿 - 單管工法:CCP工法
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【單管工法:CCP止水灌漿】
一、工法概述
係 Chemical Churning Pile method 之縮寫。係將地盤硬化劑,利用迴轉噴射方式,漿液經由單管噴出。以超高壓噴射,將基礎土壤與硬化劑加以攪拌,使其凝結成堅實強固之圓柱狀之改良土體(直徑約為30~35㎝),以改良基礎之壓縮性和止水性之地盤改良方法。
二、工法應用
◎ 推管工程、捷運工程、鑽探孔、工程用井止水固結灌漿。
◎ 連續壁公母單元之接頭止水。
◎ 鋼板樁、鋼軌樁、預壘樁樁縫止水。
◎ 維護地下開挖工程鄰近建築物之安全。
◎ 防止堤防、水庫壩心漏水封底灌漿。
◎ 防止港灣、護岸工程砂土之掏刷。
◎ 提升既有建築結構物之地盤支持力。
◎ 擋土安全設施之地錨固定樁。
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D=15cm.18cm.20cm.22cm.25cm.30cm